超微型的焊装的水平电极硅电容器
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UMC2系列系列是超微型的焊装的水平电极硅电容器,采用半导体工艺技术开发的硅基深槽电容芯片,厚度可到100μm,尺寸可到0.25mm x 0.125mm。缶英NeoCap 硅电容技术凭借 TSV(硅通孔)工艺提升介质层厚度带来的电容值的损失,TSV高深宽比 (>20:1),深度100μm. |
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硅电容器
超微型的焊装的水平电极硅电容器
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UMC2系列系列是超微型的焊装的水平电极硅电容器,采用半导体工艺技术开发的硅基深槽电容芯片,厚度可到100μm,尺寸可到0.25mm x 0.125mm。缶英NeoCap 硅电容技术凭借 TSV(硅通孔)工艺提升介质层厚度带来的电容值的损失,TSV高深宽比 (>20:1),深度100μm. |
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