Product Detail

HFC2系列

硅电容器

工作频率10GHz的焊装的水平电极高精度硅电容器

工作频率10GHz的焊装的水平电极高精度硅电容器

HFC2系列是支持工作频率10GHz以内的焊装的水平电极高精度硅电容器,利用半导体工艺,开发浅深槽结构的硅电容器,容值精度低于±1%,支持的击穿电压可达50V。本系列产品依靠超过1200℃的高温工艺的高纯度氧化膜,可靠性最高提升10倍,使DC电压与整个工作温度范围的静电容量的稳定性非常突出,GHz 频段低损耗、高 Q 值。本系列产品是适用于5G/4G、WiFi / 蓝牙、IoT 模块的阻抗匹配、耦合、滤波、谐振,以及GHz 级高速信号耦合、寄生电容补偿、微波电路调谐。同时,替代MLCC在微型便携设备TWS 耳机、智能手表、手环、微型传感器、小型 IoT 终端的应用。

 

特点

应用

  • 高稳定性(温度、电压),不降额
  • 高频性损耗低,高Q值
  • 高可靠性
  • 高精度
  • 通用性高
  • G/4G、WiFi / 蓝牙射频通信电路
  • GHz 级高速信号耦合/ 微波电路
  • 微型便携设备
  • 替代MLCC用途

 

 

部分选型(具体规格及资料请咨询本司销售

HFC2

焊装水平电极硅电容器

型号

容值

击穿电压(BV)

尺寸

厚度

HFC20421N20103-KTE

0.3 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20108-KTE

0.8 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20112-KTE

1.2pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20115-KTE

1.5 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20182-MAE

8.2 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20247-MAE

47 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20310-MAE

100 pF

50 V

0201

200 µm

HFC20421N20333-MAE

330 pF

30 V

0201

200 µm

HFC20421N20347-MAE

470 pF

30 V

0201

200 µm

HFC20421N20410-MAE

1 nF

30 V

0201

200 µm